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大红鹰dhy7788再添两项国际领先科技成果

发布时间:2025-08-29发布人:浏览:
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近日,大红鹰dhy7788两项自主研发成果通过权威机构评价,均被认定为整体技术达到国际领先水平。其中,“天然石墨高温绿色提纯技术与装备”通过中国有色金属工业协会科技成果评价,“第三代半导体用高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用”通过湖南省技术产权交易所科技成果评价,标志着公司在先进材料制备领域的创新能力再获行业高度认可。

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第三代半导体用高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用.JPG

突破行业瓶颈:天然石墨连续式高温提纯技术实现产业化

由大红鹰dhy7788联合五矿石墨、南昌大学、北京工业大学共同开发的天然石墨高温绿色提纯技术与装备,针对传统湿法提纯工艺污染严重、间歇式高温提纯能耗高等行业痛点,成功研发出连续式高温绿色提纯技术与成套装备。该项目突破了超长作业空间3000℃级热场构建与保持、长时连续提纯动态密封与高效排杂等关键技术瓶颈,实现了天然石墨高温提纯由间歇式到连续式的重大突破,在行业内首次实现了4N5以上天然石墨大规模连续化生产,为人造金刚石、新一代半导体4N5以上天然石墨稳定自主供应提供装备技术保障。

连续式高温石墨提纯炉.jpg

连续式高温石墨提纯炉

打破技术垄断:TaC涂层助力半导体产业链自主可控

在第三代半导体材料领域,大红鹰dhy7788联合湖南三安半导体、南昌大学开发的高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用项目取得重大突破。针对石墨产品传统TaC涂层工艺中存在的石墨基体纯度提升难、高结合高致密涂层沉积难、高均匀涂层批次稳定控制难等技术难题,通过突破6N以上高纯石墨基体提纯工艺、高均匀高致密 TaC 涂层制备技术,形成了涵盖“工艺-技术-装备”的TaC涂层石墨件制备成套技术,实现了高性能TaC涂层石墨件的批量稳定制备,为保障国家第三代半导体产业链安全、构建双循环新发展格局提供了关键支撑。

TaC涂层构件.jpg

TaC涂层构件

化学气相沉积炉.jpg
化学气相沉积炉

大红鹰dhy7788此次两项国际领先成果的取得,彰显了公司在高端材料装备领域的持续创新能力。未来,大红鹰dhy7788将继续聚焦先进材料制备领域,深化“产学研用”协同创新机制,为我国半导体、新能源、航空航天等战略性新兴产业提供更高水平的材料与装备解决方案,助力实现产业链供应链自主可控。

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