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高温粉体合成炉
高温粉体合成炉
产品描述：
高温粉体合成炉主要用于半导体领域的陶瓷粉体的合成。
应用范围：
高纯碳化硅、碳化硼、碳化锆、氮化硅、氮化硼、氮化铝等粉体的制备。
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高温粉体合成炉技术特征

高温粉体合成炉产品规格

型号/参数HPSF-050515HPSF-060615HPSF-060618HPSF-080825
工作区尺寸
W×H×L（mm）		500×500×1500600×600×1500600×600×1800800×800×2500
最高温度（℃）1800~24001800~24001800~24001800~2400
温度均匀性（℃）±5~±10±5~±10±5~±10±5~±10
极限真空度（Pa）1-1001-1001-1001-100
最高压力（MPa）＜0.11/2＜0.11/2＜0.11/2＜0.11/2

以上参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。


高温粉体合成炉配置选择

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